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2016亚洲光伏创新展韩国展商巡礼(2)

()P&TECH

产品介绍


1Oxidation Furnace(扩散设备)

在工程温度约700~900℃温度段,在晶圆上为形成20~100Å 程度的薄氧化膜的(Deposition)工程设备

 

2、LPCVD (D-Poly)  Furnace(低压Poly热处理设备)

在工程温度约500 ~ 650℃温度段,在晶圆上为形成约300~3000Å 程度绝缘膜的 (Deposition)工程设备

 

3、Activation Furnace(退火工艺热处理设备)

在工程温度约1050 ℃温度段令N2 Gas  flow ,进行N2 Anneal工程的设备


公司介绍

 

我们 P&TECH (People & Technology)公司以关爱顾客、重视技术、培养人才的经营理念为基础创业,全体职员以团结一致的使命感开发尖端技术,并以通过各种经验积累的

 

技术力为基础,制造半导体制造前工程的核心设备Diffusion/LP-CVD Furnace设备,为顾客提供质量/生产性/价格方面的最佳满足感。

 

此外,本公司通过开发太阳能电池制造工程设备中的Diffusion/LP-CVD/PECVD设备,供应具备世界最高生产性的设备。我们以世界最高水准的技术供应高品质的

半导体、太阳能电池制造设备,并为满足顾客多种需求成立技术研究所,经营具备最新制造设施的工厂。

 

公司沿革

 

2002年06月 成立(株)P&TECH

2003年06月 开发Horizontal Diffusion / LPCVD Furnace System (6)

2004年04月 签订光电子与Diffusion Furnace设备供应合同

2005年02月 成立企业附属研究所,4月开发Vertical Furnace (8")设备

2006年02月 在中国上海成立海外独立法人,07月 取得设备 CE Mark认证

2007年02月 向中国天津供应5台半导体批量生产用Funace

2007年11月 向台湾Vishay供应半导体批量生产Furnace设备

2008年10月 成功开发太阳能电池制造用Diffusion Furnace设备(批量生产用)

2009年12月 供应太阳能 R&D Furnace设备 (STX ,KPE)

2010年05月 与Hynix半导体公司签订M8生产线超高温Furnace设备供应合同

2010年10月 成功开发太阳能电池制造用 Activation Furnace设备

2011年05月 供应LG光伏N-Type 1期生产线 Furnace设备

2012年04月 与台湾VISHAY签订半导体6英寸Furnace设备供应合同

2013年07月 向台湾VISHAY供应半导体6英寸Furnace设备 (2台)

2013年11月 供应LG光伏N-Type 2期生产线Furnace设备

2014年10月 成功开发太阳能用LP-CVD Furnace设备

2014年12月 向台湾VISHAY供应半导体6英寸 Furnace设备 (3台)

2015年03月 供应LG光伏N-Type3,4期生产线Furnace设备

2015年07月 成功开发太阳能电池制造用LP-Diffusion Furnace设备

      成功开发太阳能电池制造用 Vertical Type PE-CVD设备

 

销售战略

 

LPCVD, PECVD通过高效率专业设备的品牌化,以新发展动力产品群攻占市场

 

海外主要合作伙伴

 

台湾 - Vishay,台湾 - GINTECH ,台湾 - MINGHWEI ,中国 - LONGGI,中国 - TALESUN,中国-GCL ,中国 - TRINASOLAR ,中国 - JASOLAR

 

目标商家

 

台湾 - Vishay,台湾 - GINTECH ,中国 - LONGGI,中国-GCL

 

海外销售负责人联系方式:

danny ,Ko /고진섭     职务:理事

电话:82-43-211-3915   手机:82-10-7360-3219  传真:82-43-211-3918

邮箱:danny@p-tech2000.com

网址:www.p-tech2000.com

地址:忠清北道清州市无心东路 782

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