(株)P&TECH
产品介绍:
1、Oxidation Furnace(扩散设备)
在工程温度约700℃~900℃温度段,在晶圆上为形成20Å~100Å 程度的薄氧化膜的(Deposition)工程设备
2、LPCVD (D-Poly) Furnace(低压Poly热处理设备)
在工程温度约500 ℃ ~ 650℃温度段,在晶圆上为形成约300Å~3000Å 程度绝缘膜的 (Deposition)工程设备
3、Activation Furnace(退火工艺热处理设备)
在工程温度约1050 ℃温度段令N2 Gas flow ,进行N2 Anneal工程的设备
公司介绍
我们 P&TECH (People & Technology)公司以关爱顾客、重视技术、培养人才的经营理念为基础创业,全体职员以团结一致的使命感开发尖端技术,并以通过各种经验积累的
技术力为基础,制造半导体制造前工程的核心设备Diffusion/LP-CVD Furnace设备,为顾客提供质量/生产性/价格方面的最佳满足感。
此外,本公司通过开发太阳能电池制造工程设备中的Diffusion/LP-CVD/PECVD设备,供应具备世界最高生产性的设备。我们以世界最高水准的技术供应高品质的
半导体、太阳能电池制造设备,并为满足顾客多种需求成立技术研究所,经营具备最新制造设施的工厂。
公司沿革
2002年06月 成立(株)P&TECH
2003年06月 开发Horizontal Diffusion / LPCVD Furnace System (6”)
2004年04月 签订光电子与Diffusion Furnace设备供应合同
2005年02月 成立企业附属研究所,4月开发Vertical Furnace (8")设备
2006年02月 在中国上海成立海外独立法人,07月 取得设备 CE Mark认证
2007年02月 向中国天津供应5台半导体批量生产用Funace
2007年11月 向台湾Vishay供应半导体批量生产Furnace设备
2008年10月 成功开发太阳能电池制造用Diffusion Furnace设备(批量生产用)
2009年12月 供应太阳能 R&D Furnace设备 (STX ,KPE)
2010年05月 与Hynix半导体公司签订M8生产线超高温Furnace设备供应合同
2010年10月 成功开发太阳能电池制造用 Activation Furnace设备
2011年05月 供应LG光伏N-Type 1期生产线 Furnace设备
2012年04月 与台湾VISHAY签订半导体6英寸Furnace设备供应合同
2013年07月 向台湾VISHAY供应半导体6英寸Furnace设备 (2台)
2013年11月 供应LG光伏N-Type 2期生产线Furnace设备
2014年10月 成功开发太阳能用LP-CVD Furnace设备
2014年12月 向台湾VISHAY供应半导体6英寸 Furnace设备 (3台)
2015年03月 供应LG光伏N-Type3,4期生产线Furnace设备
2015年07月 成功开发太阳能电池制造用LP-Diffusion Furnace设备
成功开发太阳能电池制造用 Vertical Type PE-CVD设备
销售战略
LPCVD, PECVD通过高效率专业设备的品牌化,以新发展动力产品群攻占市场
海外主要合作伙伴
台湾 - Vishay,台湾 - GINTECH ,台湾 - MINGHWEI ,中国 - LONGGI,中国 - TALESUN,中国-GCL ,中国 - TRINASOLAR ,中国 - JASOLAR
目标商家
台湾 - Vishay,台湾 - GINTECH ,中国 - LONGGI,中国-GCL
海外销售负责人联系方式:
danny ,Ko /고진섭 职务:理事
电话:82-43-211-3915 手机:82-10-7360-3219 传真:82-43-211-3918
邮箱:danny@p-tech2000.com
网址:www.p-tech2000.com
地址:忠清北道清州市无心东路 782号
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